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半導體工藝良率提升關鍵:TOC污染監控解決方案
隨著半導體技術邁向7nm、5nm及更先進制程,制造環境的潔凈度要求變得愈發嚴苛。其中,總有機碳(TOC)污染已成為影響晶圓表面質量和產品良率的關鍵因素。高效精準的TOC監控,成為半導體制造過程中不可或缺的一環。

半導體制造中的TOC控制要求
在半導體工藝流程中,超過80%的工序需要經過化學處理,而每一道化學處理都離不開超純水。根據國際標準,一級電子級別超純水的TOC需低于5ppb(ASTM D5127標準),國內標準要求低于20ppb(GB/T 11446.1-2013)。同時,電鍍液中的有機污染物也必須控制在3000-5000ppm以內,以確保PCB印制電路板的品質穩定。
行業面臨的TOC檢測挑戰
1.超低濃度檢測難:超純水中ppb級別的TOC準確測定
2.高濃度高鹽樣品:電鍍液中高TOC濃度與高鹽含量的干擾
3.濃度跨度大:不同數量級濃度樣品無法一次性測定
4.運營成本高:維護頻繁、耗材昂貴
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|精準突破一:
VITA流量管理系統
針對氧化過程中氣體流速波動問題,德國耶拿創新的VITA流量控制系統,通過集成式高性能氣體控制盒確保氣體流速穩定,電子控制實時調整補償流速波動。支持高達20ml大體積進樣,顯著提升痕量分析的精密度和靈敏度,檢出限達ppb級別。

【應用實例:超純水TOC測定】
直接測定超純水樣品,標準偏差僅0.272μg/L,檢出限達0.816μg/L,遠優于國家一級電子水標準要求。
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|精準突破二:
高效消解系統+高聚焦NDIR檢測器
采用高能雙波長紫外氧化技術(254+185nm),確保樣品完全消解為CO2。創新高聚焦NDIR檢測器采用平行光源設計,無能量損失、量程寬廣(0-30000mg/L),完美應對高TOC濃度、高鹽樣品等復雜檢測需求。

【應用實例:電鍍液TOC測定】
直接測定電鍍液樣品,加標回收率達101%-103%,重復性優異,耐鹽性能卓越。
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|精準突破三:
智能多曲線匹配技術
獨創單測試方法同時連接低、中、高濃度三條標準曲線功能,儀器自動智能匹配最佳曲線,確保測試結果準確可靠。支持同樣品盤多方法選擇,大幅減少前處理時間。

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|精準突破四:
經濟實用設計
1.高能長效紫外燈與高聚焦NDIR檢測器,壽命長、故障率低
2.半導體物理制冷除水,無耗材
3.模塊化設計,客戶可自行更換耗材
4.開放試劑,采購便捷,成本經濟
結語
德國耶拿multi N/C總有機碳分析儀憑借其卓越的技術優勢,為半導體行業提供了全面的TOC監控解決方案,有效控制生產過程中的TOC水平,維持化學工藝穩定性,降低因缺陷造成的返工和材料浪費,助力企業提升產品性能和良品率,是半導體品質控制的理想伙伴。
END
上海恒奇儀器儀表有限公司,作為耶拿分析儀器的授權代理商,全心全意為您提供更多專業的定制化的服務。
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